Radiation source and lithographic apparatus

WO2015028211 Art A1 5. März 2015

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015028211
Aktenzeichen: EP14742520
Anmeldetag: 24. Juli 2014
Veröffentlichung: 5. März 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01S3/23H05G2/00G02B27/09G02B26/06

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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