Radiation-sensitive resin composition, resin film, and electronic component
WO2015029930
Art A1
5. März 2015
Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015029930
- Aktenzeichen
- EP14840247
- Anmeldetag
- 25. August 2014
- Veröffentlichung
- 5. März 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/023G03F7/004
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Zeon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Zeon
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.
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