Fluorine-containing compound, substrate for patterning, photodegradable coupling agent, patterning method, and compound

WO2015029981 Art A1 5. März 2015

Anmelder: Kanagawa University, Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015029981
Aktenzeichen: EP14841026
Anmeldetag: 26. August 2014
Veröffentlichung: 5. März 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C07F7/18C07D207/46G03F7/004G03F7/075

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Kanagawa University
Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

5.286 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von