Slurry, polishing solution set, polishing solution, substrate polishing method, and substrate

WO2015030009 Art A1 5. März 2015

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2015030009
Aktenzeichen
EP14841125
Anmeldetag
26. August 2014
Veröffentlichung
5. März 2015
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/304B24B37/00C09K3/14
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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