Reflective mask blank, method for manufacturing reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2015030159 Art A1 5. März 2015

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015030159
Aktenzeichen: EP14839147
Anmeldetag: 29. August 2014
Veröffentlichung: 5. März 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/24

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von