Method for producing sic epitaxial wafer

WO2015033752 Art A1 12. März 2015

Anmelder: Showa Denko K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015033752
Aktenzeichen: EP14842246
Anmeldetag: 13. August 2014
Veröffentlichung: 12. März 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205C23C16/42C23C16/44C30B25/20C30B29/36

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Showa Denko K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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