Copolymer for semiconductor lithography, resist composition, and substrate production method

WO2015033960 Art A1 12. März 2015

Anmelder: Mitsubishi Rayon Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015033960
Aktenzeichen: EP14842399
Anmeldetag: 3. September 2014
Veröffentlichung: 12. März 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C08F220/28C08F2/00G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Rayon Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Rayon

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, spezialisiert auf Kohlenstofffasern und Kunststoffe, seit 2017 als Mitsubishi Chemical firmierend.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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