Apparatus for and method of temperature compensation in high power focusing system for euv lpp source

WO2015034686 Art A1 12. März 2015

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015034686
Aktenzeichen: EP14841976
Anmeldetag: 21. August 2014
Veröffentlichung: 12. März 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01S3/139

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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