Method of etching semiconductor structures with etch gases

WO2015035381 Art A1 12. März 2015

Anmelder: L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015035381
Aktenzeichen: EP14842643
Anmeldetag: 9. September 2014
Veröffentlichung: 12. März 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude
Land: 🇫🇷 Frankreich

🇫🇷 Air Liquide

Französischer Konzern für Industriegase und medizinische Gase, gegründet 1902 auf Basis des Luftverflüssigungsverfahrens von Georges Claude. Beliefert Industrie, Gesundheitswesen und Elektronikfertigung mit Gasen und Anlagentechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von