Beleuchtungsoptik für die Euv-Projektionslithografie

WO2015036225 Art A1 19. März 2015

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015036225
Aktenzeichen: EP14755372
Anmeldetag: 25. August 2014
Veröffentlichung: 19. März 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B26/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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