Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, resist film using same, pattern forming method using same, method for manufacturing electronic device, and electronic device

WO2015037364 Art A1 19. März 2015

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015037364
Aktenzeichen: EP14844926
Anmeldetag: 4. August 2014
Veröffentlichung: 19. März 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/038G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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