Substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank for euv lithography, reflective mask for euv lithography, method for producing reflective mask for euv lithography, and method for manufacturing semiconductor device

WO2015037564 Art A1 19. März 2015

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015037564
Aktenzeichen: EP14843393
Anmeldetag: 9. September 2014
Veröffentlichung: 19. März 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/24G03F1/48

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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