Reflective mask blank and method for manufacturing same, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2015041023 Art A1 26. März 2015

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015041023
Aktenzeichen: EP14846524
Anmeldetag: 29. August 2014
Veröffentlichung: 26. März 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/24G03F1/84

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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