Projection optical system, method for adjusting projection optical system, exposure apparatus, exposure method, and device production method

WO2015041335 Art A1 26. März 2015

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015041335
Aktenzeichen: EP14846568
Anmeldetag: 19. September 2014
Veröffentlichung: 26. März 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G02B17/08G02B13/24H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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