Thin film structure and production method for same

WO2015041390 Art A1 26. März 2015

Anmelder: Seoul National University R & DB Foundation 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015041390
Aktenzeichen: EP14846673
Anmeldetag: 18. Februar 2014
Veröffentlichung: 26. März 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C30B29/38C23C14/48

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Seoul National University R & DB Foundation
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Seoul National University R&DB Foundation

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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