Spiegel, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage

WO2015043832 Art A1 2. April 2015

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015043832
Aktenzeichen: EP14761582
Anmeldetag: 18. August 2014
Veröffentlichung: 2. April 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G21K1/06H01L41/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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