Optische Anordnung, insbesondere Plasma-Lichtquelle oder Euv-Lithographieanlage

WO2015043833 Art A1 2. April 2015

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015043833
Aktenzeichen: EP14752338
Anmeldetag: 18. August 2014
Veröffentlichung: 2. April 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20B08B7/00B24C1/00B24C7/00B24C11/00C01B31/22G01N21/88G21K1/06H01J65/04H05G2/00G02B27/00G01N21/94

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Elektrische Energietechnik Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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