Semiconductor film, oxide microparticle dispersion, method for manufacturing semiconductor film, and thin film transistor

WO2015045634 Art A1 2. April 2015

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015045634
Aktenzeichen: EP14849605
Anmeldetag: 6. August 2014
Veröffentlichung: 2. April 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/786H01L21/336H01L51/05H01L51/30H01L51/40

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von