Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, polymer, and compound

WO2015045739 Art A1 2. April 2015

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015045739
Aktenzeichen: EP14848934
Anmeldetag: 29. August 2014
Veröffentlichung: 2. April 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C07C69/54C08F12/22C08F20/28G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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