Active light sensitive or radiation sensitive composition, and resist film, pattern forming method, resist-coated mask blank, method for producing photomask, photomask, method for manufacturing electronic device, and electronic device, each of which uses said active light sensitive or radiation sensitive composition
WO2015045876
Art A1
2. April 2015
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015045876
- Aktenzeichen
- EP14848988
- Anmeldetag
- 10. September 2014
- Veröffentlichung
- 2. April 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004G03F7/038G03F7/039H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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