Active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern formation method, method for manufacturing electronic device, electronic device, and compound

WO2015045977 Art A1 2. April 2015

Anmelder: FUJI-FILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015045977
Aktenzeichen: EP14847708
Anmeldetag: 17. September 2014
Veröffentlichung: 2. April 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C59/135C07C309/17C07C309/19C07C309/42C07C381/12C07D211/96C07D327/06C07D333/46C07F7/18C07F9/09C07F9/59C07F9/655C07F9/6553G03F7/038G03F7/039G03F7/075H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJI-FILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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