Radiation-sensitive resin composition and resist pattern forming method

WO2015046021 Art A1 2. April 2015

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015046021
Aktenzeichen: EP14849038
Anmeldetag: 18. September 2014
Veröffentlichung: 2. April 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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