Substrate provided with conductive film, substrate provided with multi-layer reflection film, reflective mask blank, reflective mask, and semiconductor device manufacturing method

WO2015046095 Art A1 2. April 2015

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015046095
Aktenzeichen: EP14846932
Anmeldetag: 22. September 2014
Veröffentlichung: 2. April 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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