Substrate provided with multilayer reflective film, mask blank, transfer mask, and semiconductor device production method

WO2015046303 Art A1 2. April 2015

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015046303
Aktenzeichen: EP14847187
Anmeldetag: 25. September 2014
Veröffentlichung: 2. April 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G02B5/28G03F1/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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