Radiation sensitive composition and pattern forming method
WO2015046332
Art A1
2. April 2015
Anmelder: Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015046332
- Aktenzeichen
- EP14846789
- Anmeldetag
- 25. September 2014
- Veröffentlichung
- 2. April 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004G02B5/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
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