Pretreatment method for filter unit, treatment liquid supply device, filter unit heating device, and pretreatment method for treatment liquid supply path

WO2015046455 Art A1 2. April 2015

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015046455
Aktenzeichen: EP14848878
Anmeldetag: 26. September 2014
Veröffentlichung: 2. April 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B05C11/10B08B3/04B08B3/08H01L21/304H01L21/306

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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