Photosensitive resin composition, photosensitive element, semiconductor device and method for forming resist pattern

WO2015046521 Art A1 2. April 2015

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015046521
Aktenzeichen: EP14848347
Anmeldetag: 29. September 2014
Veröffentlichung: 2. April 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/004G03F7/027H05K3/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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