Etchant composition and method for forming metal wire and thin film transistor substrate using same

WO2015046794 Art A1 2. April 2015

Anmelder: Samsung Display Co., Ltd., Dongjin Semichem Co., Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015046794
Aktenzeichen: EP14848273
Anmeldetag: 16. September 2014
Veröffentlichung: 2. April 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C23F1/16C23F1/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Samsung Display Co., Ltd.
Dongjin Semichem Co., Ltd.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Samsung Display

Südkoreanisches Tochterunternehmen der Samsung-Gruppe, das Displaypanels wie OLED- und LCD-Bildschirme für Smartphones, Fernseher und weitere Elektronikgeräte entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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