System and method for controlling droplets of target material in an euv light source

WO2015047725 Art A1 2. April 2015

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015047725
Aktenzeichen: EP14846814
Anmeldetag: 9. September 2014
Veröffentlichung: 2. April 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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