Profile Aware Source-Mask Optimization

WO2015049099 Art A1 9. April 2015

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015049099
Aktenzeichen: EP14762007
Anmeldetag: 11. September 2014
Veröffentlichung: 9. April 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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