Photosensitive conductive film, conductive pattern formation method using same, and conductive pattern substrate

WO2015049939 Art A1 9. April 2015

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015049939
Aktenzeichen: EP14850870
Anmeldetag: 28. August 2014
Veröffentlichung: 9. April 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01B13/00B32B27/12B32B27/16B32B27/18H01B5/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von