Film formation mask and production method therefor

WO2015053250 Art A1 16. April 2015

Anmelder: V Technology Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2015053250
Aktenzeichen
EP14851735
Anmeldetag
7. Oktober 2014
Veröffentlichung
16. April 2015
Rechtsraum
WO
IPC
C23C14/04H01L51/50H05B33/10
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
V Technology Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 V Technology

V Technology ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für Displays und Halbleiter. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik, ergänzt um Fertigungs- und Messtechnik. Anmeldungen laufen von 2005 bis in die Gegenwart.

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