Removal composition for selectively removing hard mask and methods thereof

WO2015054464 Art A1 16. April 2015

Anmelder: E. I. du Pont de Nemours and Company, EKC TECHNOLOGY, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015054464
Aktenzeichen: EP14786772
Anmeldetag: 9. Oktober 2014
Veröffentlichung: 16. April 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/3213H01L21/311

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: E. I. du Pont de Nemours and Company
EKC TECHNOLOGY, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 DuPont

US-amerikanischer Chemie- und Materialkonzern mit Sitz in Wilmington, Delaware. DuPont entwickelt Spezialchemikalien, Polymere, Elektronikmaterialien sowie Werkstoffe für Industrie, Bauwesen, Elektronik und Gesundheitswesen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von