Dressing device for polishing-use foamed urethane pad

WO2015056405 Art A1 23. April 2015

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015056405
Aktenzeichen: EP14853222
Anmeldetag: 22. September 2014
Veröffentlichung: 23. April 2015
Rechtsraum: WO
IPC: B24B37/00B24B53/02B24B53/12B24D3/00B24D7/06H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.022 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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