Exhaust gas purification device
WO2015056652
Art A1
23. April 2015
Anmelder: Ibiden Co., Ltd 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015056652
- Aktenzeichen
- EP14853399
- Anmeldetag
- 10. Oktober 2014
- Veröffentlichung
- 23. April 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- F01N3/28B01D46/00B01D53/94B01J33/00B01J35/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Ibiden Co., Ltd
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Ibiden
Ibiden ist ein japanischer Hersteller elektronischer Materialien mit Sitz in Ogaki, spezialisiert auf IC-Substrate für Halbleiter sowie Keramikprodukte für die Automobil- und Elektronikindustrie.
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Vertreten von
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