Sputtering High Throughput Aluminum Film

WO2015057051 Art A1 23. April 2015

Anmelder: Mimos, Berhad 🇲🇾

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015057051
Aktenzeichen: EP14777894
Anmeldetag: 27. Mai 2014
Veröffentlichung: 23. April 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/16C23C14/34C23C14/54H01L21/285

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Mimos, Berhad
Land: 🇲🇾 Malaysia

🇲🇾 Mimos Berhad

Malaysisches staatliches Forschungsinstitut für Informations- und Kommunikationstechnologie mit Sitz in Kuala Lumpur. Die Patente decken Halbleitertechnik, Mikroelektronik und IT-Sicherheit ab.

929 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von