Oxide sintered body, oxide sputtering target and conductive oxide thin film with high refractive index, and method for producing oxide sintered body

WO2015059938 Art A1 30. April 2015

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015059938
Aktenzeichen: EP14856740
Anmeldetag: 8. Januar 2014
Veröffentlichung: 30. April 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C04B35/453C04B35/457C23C14/34G11B7/24G11B7/254G11B7/257H01B5/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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