Spiegel, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage

WO2015062919 Art A1 7. Mai 2015

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015062919
Aktenzeichen: EP14796438
Anmeldetag: 21. Oktober 2014
Veröffentlichung: 7. Mai 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B1/10G21K1/06G02B5/08G02B5/28C23C28/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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