Method for manufacturing cu-ga alloy sputtering target

WO2015064157 Art A1 7. Mai 2015

Anmelder: SUMITOMO METAL MINING COMPANY LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015064157
Aktenzeichen: EP14857030
Anmeldetag: 18. Juli 2014
Veröffentlichung: 7. Mai 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B22F3/02B22F3/10B22F3/24C22C1/04C22C9/00H01L31/0216

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: SUMITOMO METAL MINING COMPANY LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Metal Mining

Sumitomo Metal Mining ist ein japanisches Unternehmen des Sumitomo-Konzerns, das Metalle wie Kupfer, Nickel und Gold fördert und verarbeitet sowie Batteriematerialien herstellt.

840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von