Thin film production method and transparent conductive film

WO2015064438 Art A1 7. Mai 2015

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015064438
Aktenzeichen: EP14858526
Anmeldetag: 22. Oktober 2014
Veröffentlichung: 7. Mai 2015
Rechtsraum: WO
IPC: B05D7/24B05D1/12B05D3/06C01G9/02C01G19/00H01B5/14H01B13/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

5.286 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von