Etching liquid and etching method for oxide consisting essentially of zinc, tin and oxygen
WO2015064468
Art A1
7. Mai 2015
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015064468
- Aktenzeichen
- EP14857762
- Anmeldetag
- 23. Oktober 2014
- Veröffentlichung
- 7. Mai 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/308C09K13/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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Vertreten von
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