Etching liquid and etching method for oxide consisting essentially of zinc, tin and oxygen

WO2015064468 Art A1 7. Mai 2015

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2015064468
Aktenzeichen
EP14857762
Anmeldetag
23. Oktober 2014
Veröffentlichung
7. Mai 2015
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/308C09K13/04
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

2.580 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen