Target for magnetron sputtering

WO2015064761 Art A1 7. Mai 2015

Anmelder: Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015064761
Aktenzeichen: EP14858357
Anmeldetag: 28. Oktober 2014
Veröffentlichung: 7. Mai 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34G11B5/851

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tanaka Kikinzoku Kogyo

Tanaka Kikinzoku Kogyo ist ein japanisches Unternehmen für Edelmetallverarbeitung mit Sitz in Tokio. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt um Fertigungs- und Verfahrenstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2023 ab.

430 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von