Method of characterising, method of forming a model, method of simulating, mask manufacturing method and device manufacturing method

WO2015067443 Art A1 14. Mai 2015

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015067443
Aktenzeichen: EP14786839
Anmeldetag: 14. Oktober 2014
Veröffentlichung: 14. Mai 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F1/44G03F7/20G03F1/38G03F1/22G03F1/70

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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