Sputtering Target
WO2015068564
Art A1
14. Mai 2015
Anmelder: Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015068564
- Aktenzeichen
- EP14860213
- Anmeldetag
- 21. Oktober 2014
- Veröffentlichung
- 14. Mai 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34C04B35/00C23C14/08H01L21/363
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsui Mining & Smelting
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Nichteisenmetallen sowie der Herstellung von Materialien für die Elektronikindustrie.
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Vertreten von
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