Method for chemical polishing and planarization
WO2015069646
Art A1
14. Mai 2015
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2015069646
- Aktenzeichen
- EP14860443
- Anmeldetag
- 4. November 2014
- Veröffentlichung
- 14. Mai 2015
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C03C25/68H01L21/302H01L21/38H01L21/461
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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