Manufacturing method for polycrystalline silicon thin-film substrate

WO2015070589 Art A1 21. Mai 2015

Anmelder: BOE Technology Group Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015070589
Aktenzeichen: EP14862305
Anmeldetag: 29. Mai 2014
Veröffentlichung: 21. Mai 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02C30B30/04C30B28/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: BOE Technology Group Co., Ltd.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 BOE Technology

Chinesischer Elektronikkonzern mit Sitz in Peking, entwickelt und fertigt Display-Technologien wie LCD- und OLED-Bildschirme für Endgeräte und Industrieanwendungen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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