Semiconductor substrate treatment liquid, treatment method, and manufacturing method of semiconductor substrate product using these

WO2015072552 Art A1 21. Mai 2015

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015072552
Aktenzeichen: EP14862930
Anmeldetag: 14. November 2014
Veröffentlichung: 21. Mai 2015
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304G03F7/32G03F7/42H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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