System and method for correcting the focus of a laser beam

WO2015075551 Art A2 28. Mai 2015

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015075551
Aktenzeichen: EP14841365
Anmeldetag: 6. November 2014
Veröffentlichung: 28. Mai 2015
Rechtsraum: WO
IPC: G02B7/18G02B26/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇺🇸 USA

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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