Pattern forming method and heating device

WO2015075833 Art A1 28. Mai 2015

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015075833
Aktenzeichen: EP13897766
Anmeldetag: 25. November 2013
Veröffentlichung: 28. Mai 2015
Rechtsraum: WO
IPC: B05D7/24B05C9/14B05D3/02B05D3/10G03F7/004G03F7/38H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von