Sputtering target for forming magnetic recording film and method for producing same

WO2015076190 Art A1 28. Mai 2015

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2015076190
Aktenzeichen: EP14864918
Anmeldetag: 14. November 2014
Veröffentlichung: 28. Mai 2015
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B22F3/00C22C1/04C22C5/04C22C38/00G11B5/851

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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